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Boston: Academic Press, 1992. Hardover, [xii], 476 pages. Near Fine condition. Size 9.25"x6.25". "Plasma etching plays an essential role in microelectronic circuit manufacturing. Suitable for researchers, process engineers, and graduate students, this book introduces the basic physics and chemistry of electrical discharges and relates them to plasma etching mechanisms. Throughout the volume the authors offer practical examples of process chemistry, equipment design, and production methods." Book has very light exterior shelfwear. Previous owner's name on front fly, else Fine condition, clean and unmarked.. Near Fine.
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Plasma Etching: An Introduction Tapa dura - 1989 - 1st Edición
de Dennis M. Manos (Editor); Daniel L. Flamm (Editor)
Primera línea
The rapid development of plasma etching technology was stimulated by its application to the manufacture of microelectronic devices.
Detalles
- Título Plasma Etching: An Introduction
- Autor Dennis M. Manos (Editor); Daniel L. Flamm (Editor)
- Encuadernación Tapa dura
- Número de edición 1st
- Edición 1
- Páginas 476
- Volúmenes 1
- Idioma ENG
- Editorial Academic Press
- Fecha de publicación 1989-07-28
- Ilustrado Sí
- Features Illustrated, Index, Table of Contents
- ISBN 9780124693708 / 0124693709
- Peso 2.12 libras (0.96 kg)
- Dimensiones 9.26 x 6.28 x 1.43 pulgadas (23.52 x 15.95 x 3.63 cm)
- Library of Congress subjects Plasma etching
- Número de catálogo de la Librería del Congreso de EEUU 87037419
- Dewey Decimal Code 621.044
Más ejemplares
Plasma Etching: An Introduction
de Manos, Dennis M.; Flamm, Daniel L. (Editors)
- Usado
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- ISBN 10 / ISBN 13
- 9780124693708 / 0124693709
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Plasma Etching: An Introduction
de Dennis M. Manos
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Plasma Etching: An Introduction
de Dennis M. Manos
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Hardback. New. Plasma etching plays an essential role in microelectronic circuit manufacturing. Useful for researchers, process engineers, and students, this book introduces the physics and chemistry of electrical discharges and relates them to plasma etching mechanisms. It offers practical examples of process chemistry, equipment design, and production methods.
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Plasma Etching: An Introduction (Plasma : Materials Interactions)
de Dennis Manos
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Plasma Etching : An Introduction
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Plasma Etching: An Introduction (Plasma -- Materials Interactions)
de Manos, Dennis M. [Editor]; Flamm, Daniel L. [Editor];
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Plasma Etching: An Introduction (Plasma -- Materials Interactions)
de Manos, Dennis M. [Editor]; Flamm, Daniel L. [Editor];
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