Electron-beam, X-ray, and ion-beam techniques for submicrometer lithographies III: March 15-16, 1984, Santa Clara, California (Proceedings of SPIE--the International Society for Optical Engineering) Tapa blanda - 1984

Estados de conservación

• COMO NUEVO
  El libro está libre de defectos, como cuando fue recién publicado.
• MUY BUENO
  Casi como nuevo, pero puede presentar pequeños signos de uso, casi insignificantes.
  
• BUENO
  Esperamos que esta categoría no necesite mucho más explicación.
• BIEN
  Es un libro usado que muestra algunos pequeños signos de desgaste, pero sin rasgaduras ni en la encuadernación ni en el papel.
• CON SIGNOS DE USO
  Se nota que ha sido leído, pero tiene todas las páginas. La librería debe indicar cualquier defecto fuera de lo esperable en un libro de segunda mano.
• ACEPTABLE
  Está regular, pero aún se puede leer.
• POBRE
  Se trata de un ejemplar que presenta desgaste y daños considerables, pero aún así sigue siendo legible y el texto está completo. Si faltase alguna página, la librería debe señalarlo.