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Ultrathin SiO2 and High-K Materials for ULSI Gate Dielectrics: Volume 567 (MRS
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Ultrathin SiO2 and High-K Materials for ULSI Gate Dielectrics: Volume 567 (MRS Proceedings) Tapa dura - 1999

de Huff, H.R. (ed)


Detalles

  • Título Ultrathin SiO2 and High-K Materials for ULSI Gate Dielectrics: Volume 567 (MRS Proceedings)
  • Autor Huff, H.R. (ed)
  • Encuadernación Tapa dura
  • Idioma ENG
  • Editorial Cambridge University Press, Warrendale, Pennsylvania, U.S.A.
  • Fecha de publicación 1999-09
  • ISBN 9781558994744
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Ultrathin SiO2 and Higg-K Materials for ULSI Gate Dielectrics: Volume 567 (MRS Proceedings)
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Ultrathin SiO2 and Higg-K Materials for ULSI Gate Dielectrics: Volume 567 (MRS Proceedings)

de Huff, H.R. (ed)

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Used - Like New
ISBN 10 / ISBN 13
9781558994744 / 1558994742
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Chicago, Illinois, United States
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Materials Research Society. Used - Like New. 1999. Small publisher's mark on bottom of text block. Otherwise, Fine.
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de Huff, H.R. (ed)

  • Usado
  • Tapa dura
Estado
Used - Good
Encuadernación
Hardcover
ISBN 10 / ISBN 13
9781558994744 / 1558994742
Cantidad disponible
1
Librería
Chicago, Illinois, United States
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Materials Research Society. Used - Good. 1999. Hardcover. Tears to bottom edge of pages from front endpapers through to p. ix. Remainder mark. Ends of spine bumped. Good.
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Ultrathin SiO2 and Higg-K Materials for ULSI Gate Dielectrics: Volume 567 (MRS Proceedings)

de Editor-M. L. Green; Editor-T. Hattori; Editor-H. R. Huff; Editor-G. Lucovsky; Editor-C. A. Richter

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Estado
Usado - Good
Encuadernación
Hardcover
ISBN 10 / ISBN 13
9781558994744 / 1558994742
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1
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HOUSTON, Texas, United States
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EUR 29.84
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Descripción:
Materials Research Society, 1999-09-01. Hardcover. Good.
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EUR 29.84
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